アプリケーション

リソグラフィ

XY座標テーブル向け高精度リニアガイドシステム

フォトリソグラフィでは、感光性樹脂フォトレジストをウェーハの表面に塗布した後、フォトマスクを介し、露光してマスクのパターンを形成します。

次世代の半導体生産システムでは、高い記憶密度とスイッチング速度を得るために、チップのサイズは60nm未満になるでしょう。

リニアモーターで駆動するXYテーブルでは、基板とフォトマスクを搬送します。これを実現できるのは、INAのリニアローラーガイドRUEシリーズ等、剛性と振動減衰性を備えた高精度ガイドシステムです。さらに低ノイズ仕様のリニアガイドシステムは、均一な走行および低い摺動抵抗が特徴で、、位置決め精度と再現精度に優れています。